Klassificering av kiselskivor

1. Monokristallint kisel
Monokristallint kisel, även känd som CZ -monokristallint kisel, är ett högt - renhetssilikonmaterial, vanligtvis används för att tillverka halvledarenheter. Produktionsprocessen av monokristallint kisel är relativt komplicerad och måste framställas med Czochralski -metoden eller den flytande zonmetoden. Kristallstrukturen för denna kiselskiva är mycket ordnad, vilket kan säkerställa enhetens stabila prestanda. På grund av dess utmärkta konduktivitet och goda elektrostatiska egenskaper används den allmänt inom elektronikindustrin, såsom tillverkning av chips, fotovoltaiska celler och solceller.
2. Polykristallint kisel
Polykristallint kisel är ett lågt - renhet, löst kristalliserat kiselmaterial, främst används i solcellindustrin. Produktionsprocessen för denna kiselskiva är relativt enkel, och den kan framställas med den direkta dragmetoden eller arkkristallisationsmetoden. Polykristallint kisel kännetecknas av låg kostnad och hög produktionseffektivitet, så det används allmänt inom området solceller.
3. Czochralski -kisel
Czochralski -kisel, även känd som CZ -kisel, är en hög - renhet monokristallint kiselmaterial framställt med czochralski -metoden. Produktionsprocessen är relativt komplicerad och kräver hög temperatur och högtrycksmiljö, vilket kan ge mycket hög - kvalitetssilikonkristaller. CZ -kisel har egenskaperna hos fullständig kristallstruktur och stabila elektriska egenskaper och används allmänt inom elektronik, fotovoltaik och andra fält.